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關於光柵
光柵作為重要的分光器件,它的選擇與性能直接影響整個係統性能。
光柵分為刻劃光柵、複製光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鑽石刻刀在塗薄金屬表麵機械刻劃而成;複製光柵是用母光柵複製而成。典型刻劃光柵和複製光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光幹涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點,全息光柵葫芦娃污APP範圍廣,雜散光低,且可作到高葫芦娃污APP分辨率。
如何選擇光柵
選擇光柵主要考慮如下因素:
1、光柵刻線,光柵刻線多少直接關係到葫芦娃污APP分辨率,刻線多葫芦娃污APP分辨率高,刻線少葫芦娃污APP覆蓋範圍寬,兩者要根據實驗靈活選擇;
2、閃耀波長,閃耀波長為光柵zui大衍射效率點,因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近。如實驗為可見光範圍,可選擇閃耀波長為500nm ;
3、使用範圍,光柵的使用的下限通常可認為是光柵閃耀波長的一半,上限可認為是光柵閃耀波長的二倍,實際可參考光柵效率曲線圖;
4、光柵效率,光柵效率是衍射到給定級次的單色光與入射單色光
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